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氧化鋁催化劑膠體磨是針對催化劑制備的專用設(shè)備,通過定轉(zhuǎn)子高速剪切與研磨作用,將氧化鋁物料細化至微米 - 納米級,打破團聚、提升分散均勻性。設(shè)備研磨精度高、運行穩(wěn)定,符合催化材料制備標準,適配化工催化等領(lǐng)域,為氧化鋁催化劑的活性提升與性能優(yōu)化提供可靠技術(shù)保障。
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氧化鋁催化劑膠體磨
單組分沉淀法:沉淀劑與一種待沉淀溶液作用制備一組分沉淀物。如氧化鋁載體的制備反應(yīng)如下:
Al3+ + OH-→ Al2O3•nH2O↓ AlO2- + H3O+ → Al2O3•nH2O↓
共沉淀法:兩個以上的組分同時沉淀。如低壓合成甲醇用的三組分催化劑CuO-ZnO-Al2O3的制備:將這三種待沉淀離子的硝酸鹽混合液與Na2CO3并流加入沉淀槽,在強烈攪拌下,在恒定的溫度和近中性的條件下,形成三組分沉淀。再經(jīng)過后續(xù)處理得三組分催化劑。
均勻沉淀法:先將待沉淀的溶液與沉淀劑母體充分混合為十分均勻的體系,再改變條件,如調(diào)節(jié)溫度和時間,逐漸提高 PH,體系中逐漸生成沉淀劑,沉淀緩慢進行,制得顆粒均勻、比較純凈的沉淀物。如Al(OH)3的制備。在鋁鹽溶液中加入尿素溶化混勻,再加熱到90~100℃,此時溶液中各處的尿素同時水解,釋放出OH-,其反應(yīng)為:
(NH4)CO3+ 3H2O→2NH4+ + 2OH- + CO2 Al3++ OH- →Al(OH)3↓
超均勻沉淀法:先制成鹽溶液的懸浮層(2~3層),再立即瞬間混合成過飽和的均勻溶液,從而得到超均勻的沉淀物。如硅酸鎳催化劑的制備,順次將硅酸鈉溶液(密度0.0013 )、20%的硝酸鈉溶液(密度0.0012 )、含硝酸鎳和硝酸的溶液(密度0.0011 )在容器中形成三層→立即攪拌形成過飽和溶液→放置數(shù)分鐘或數(shù)小時,形成均勻的水凝膠或膠凍→自母液分出→水洗、干燥、焙燒→催化劑先驅(qū)物。
根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求,SID 在GM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開發(fā)了一款GMS2000高速膠體磨,轉(zhuǎn)子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。
超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。
GMS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
氧化鋁催化劑膠體磨設(shè)備選型表:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
GMSD2000/4
400
14,000
44
4
DN25/DN15
GMSD2000/5
1000
10,050
11
DN40/DN32
GMSD2000/10
3000
7,500
22
DN80/DN65
GMSD2000/20
8000
4,900
45
GMSD2000/30
20000
2,850
90
DN150/DN125
GMSD2000/50
60000
1,100
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。