納米氧化鋅分散機是解決其易團聚問題的專用設備，通過高剪切、超聲或高壓均質等技術，將納米氧化鋅顆粒打散并均勻分散。配備精準控溫與防二次團聚設計，保障粒徑穩定。廣泛用于涂料、化妝品、橡膠等領域，助力發揮納米氧化鋅的抗菌、防曬等特性，提升產品性能。
納米氧化鋅分散機
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品，使其在陶瓷、化工、電子、光學、生物、醫藥等許多領域有重要的應用價值，具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。
納米級粉末的分散，普遍會出現物料團聚的現象，導致粒徑變大。SID研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結合，先研磨后分散機，解決團聚問題！
GMD2000系列研磨式分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
GMD2000系列研磨式分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
納米氧化鋅分散機設備參數表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
打印當前頁
發郵件給我們：lwc@sgnprocess.com